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印度理工學(xué)院甘地訥格爾分校的科研人員宣布，已成功制造出世界最薄材料，厚度僅為一張紙的十萬分之一。這一新材料可應(yīng)用于下一代電池和能吸收紫外線的涂料等。
據(jù)今日俄羅斯電視臺(tái)網(wǎng)站5日?qǐng)?bào)道，利用二硼化鎂造出的新材料厚度僅為1納米。人類一根頭發(fā)厚度約8萬納米，脫氧核糖核酸（DNA）的直徑也有2.5納米。
印度理工學(xué)院甘地訥格爾分?；瘜W(xué)工程系的卡比爾·賈蘇亞說，新材料制造方法“特別簡(jiǎn)單”，將二硼化鎂溶于水，并掌握好再結(jié)晶時(shí)間即可。
賈蘇亞說，此前制造類似納米材料需要凝華過程，這一過程的高昂成本限制了它們的應(yīng)用范圍。而此次造出的新材料能被用于制造吸收紫外線的透明薄膜、工程用儲(chǔ)氫材料，以及下一代電池和納米催化劑等。
超薄材料一直是熱門科研課題。制成石墨烯的兩名科學(xué)家2010年獲諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。（海洋）【新華社微特稿】
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余聞婕
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